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法国研究所暗室中的小型曝光機 左:EVG-620 右:MA-150

曝光機(英語:Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圓;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。

概要编辑

生产集成电路的简要步骤:

  • 利用模版去除晶圆表面的保护膜。
  • 将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
  • 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

其中曝光機就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:

  • 模版和晶圆大小一样,模版不动。
  • 模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。

其中模版随曝光機移动的方式,模版相对曝光機中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。

主要厂商编辑

曝光機是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。因此曝光機价格昂贵,通常在 3 千萬至 5 億美元。