一片光罩的展示品

光罩(英語:Reticle, Mask):在製作集成电路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。

結構编辑

  • 實體結構:佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
  • 倍縮光罩(Reticle):在投影式光刻机中,掩模作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模(reticle)。
  • 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。

種類编辑

相位移光罩、二元光罩

参考文献编辑

  1. ^ 光罩.Mask.Reticle 互联网档案馆存檔,存档日期2010-10-03.