草酰氟
化合物
草酰氟是草酸的氟代衍生物，为平面分子[1]。它在刻蚀有着潜在应用，以替代有全球暖化潛勢的化合物使用。[2][3]
| 草酰氟 | |||
|---|---|---|---|
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| IUPAC名 Oxalyl difluoride | |||
| 别名 | 乙二酰氟 | ||
| 识别 | |||
| CAS号 | 359-40-0 
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| PubChem | 9668 | ||
| ChemSpider | 9287 | ||
| SMILES |
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| InChI |
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| EINECS | 206-630-4 | ||
| 性质 | |||
| 化学式 | C2F2O2 | ||
| 摩尔质量 | 94.017 g·mol⁻¹ | ||
| 熔点 | -3 °C（270 K） | ||
| 沸点 | 26.6 °C（300 K） | ||
| 若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
参见
编辑参考文献
编辑- ^ 王冬梅, 耿志远. 草酰氟分子(FCO)2的量子化学研究[J]. 宝鸡文理学院学报(自科版), 2007, 27(1):49-53.
- ^ Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds （页面存档备份，存于互联网档案馆）, US Patent 6635185.
- ^ Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc. Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool. J. Electrochem. Soc. 2001, 148 (3): G141–G149. doi:10.1149/1.1348263.