三甲基硅烷
化合物
三甲基硅烷或三甲基硅化氢,是一种有机硅化合物,化学式为C3H10Si,结构简式(CH3)3SiH。它是一种极易燃的物质。三甲基硅烷用于半导体工业中的等离子相腐蚀剂。[1]
三甲基硅烷 | |||
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识别 | |||
CAS号 | 993-07-7 | ||
ChemSpider | 63614 | ||
SMILES |
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性质 | |||
化学式 | C3H10Si | ||
摩尔质量 | 74.2 g·mol−1 | ||
密度 | 0.638 g cm-3 | ||
熔点 | -135.9 °C(137 K) | ||
沸点 | 6.7 °C(280 K) | ||
危险性 | |||
警示术语 | R:R12, R36/37/38 | ||
安全术语 | S:S9, S16, S26, S33 | ||
欧盟分类 | F | ||
NFPA 704 | |||
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。 |
参见
编辑参考资料
编辑- ^ Chen, Sheng-Wen; Wang, Yu-Sheng; Hu, Shao-Yu; Lee, Wen-Hsi; Chi, Chieh-Cheng; Wang, Ying-Lang. A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films. Materials. 2012, 5 (3): 377. doi:10.3390/ma5030377.
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