65納米製程
65納米製程是半導體製造製程的一個技術水平。至2007年，英特爾、AMD、IBM、聯華電子、特許半導體和台積電等公司已有能力進行65納米製程的量產[1]。
當製程進入65納米之時，用於進行光刻的光的波長是193納米和248納米。具有低於光波波長的製造廠要求使用一些特殊技術，比如光學鄰近校正和相位移掩膜板技術。此外，12英寸晶圓在此製程開始成為主流。
具有65納米製程的產品 編輯
- Intel 奔騰4/奔騰D 2006年1月
- Intel 酷睿2(Conroe、Conroe XE、Merom、Kentsfield)
- AMD Athlon 64系列（始於Lima） 2007年2月
- nVIDIA GeForce 8 （部份系列）、GeForce 9（部份系列）、GeForce 100（部份系列）、GeForce 200（2008年6月，部份系列）
參考文獻 編輯
- ^ 2006 industry roadmap （頁面存檔備份，存於互聯網檔案館）, Table 40a
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